美國(guó)機(jī)械工程專業(yè)申請(qǐng)難度有多高?根據(jù)不同的專業(yè)方向申請(qǐng)難度也有難易的差別。總體來(lái)說(shuō)系統(tǒng)與自動(dòng)控制，MEMS，計(jì)算機(jī)輔助工程最難申請(qǐng)。下面我們來(lái)看詳細(xì)內(nèi)容。
一、美國(guó)機(jī)械工程專業(yè)申請(qǐng)難度
(一)能量大類
1、能量方向
研究方向：能量及流體，主要包括風(fēng)能、水能的能量轉(zhuǎn)換，能量轉(zhuǎn)換系統(tǒng)及其設(shè)備的設(shè)計(jì)制造，能量系統(tǒng)及熱力學(xué)，能量應(yīng)用 ( 加熱 / 通風(fēng) / 空調(diào)及制冷用能 )，能量及環(huán)境，環(huán)境能量技術(shù)評(píng)估，熱物理學(xué)，太陽(yáng)能，清潔能源，清潔能源技術(shù)。
申請(qǐng)所需相關(guān)背景：
申請(qǐng)此方向需要有很強(qiáng)的物理學(xué)基礎(chǔ) , 當(dāng)偏流體學(xué)相關(guān)時(shí)，那么申請(qǐng)者要有相應(yīng)的流體力學(xué)、空氣動(dòng)力學(xué)，熱力學(xué)等相關(guān)背景;
如果有能量系統(tǒng)整體研究則要有很好的數(shù)學(xué)建模能力;
在能量轉(zhuǎn)換系統(tǒng)設(shè)備制造這一領(lǐng)域，則要有很好Design and Manufacturing 相關(guān)背景。
申請(qǐng)難度：
由于目前來(lái)說(shuō)，能源問(wèn)題很受各國(guó)的重視，能量的主要研究集中在新能源的開(kāi)發(fā)，各種能量轉(zhuǎn)換設(shè)備的設(shè)計(jì)和制造上。
資金主要來(lái)自于聯(lián)邦政府的撥款，由于此領(lǐng)域的戰(zhàn)略意義和研究的難度，有研究實(shí)力的都是綜合排名比較靠前的學(xué)校，所以申請(qǐng)難度比較大，但是一旦通過(guò)錄取，獲 offer 的機(jī)會(huì)是非常大的。
2、摩擦方向
研究方向：
摩擦?xí)r能量的轉(zhuǎn)換，同熱物理學(xué)結(jié)合非常緊密，并同新型材料的研究開(kāi)發(fā)結(jié)合，對(duì)某些材料的相關(guān)摩擦性能進(jìn)行研究。
申請(qǐng)所需相關(guān)背景：物理學(xué)的研究?jī)?nèi)容之一，所以申請(qǐng)此專業(yè)一定要有好的物理背景。除此之外根據(jù)不同的方向應(yīng)有熱力學(xué)或材料學(xué)相關(guān)背景。
申請(qǐng)難度：
總體來(lái)說(shuō)，申請(qǐng)此方向的多為物理理論研究者，申請(qǐng)競(jìng)爭(zhēng)人群的數(shù)量不大，所以在 ME 專業(yè)中屬于較好申請(qǐng)的一類。
3、流體方向
研究方向：
主要針對(duì)兩大方向，航空航天領(lǐng)域和能量領(lǐng)域。前者有空氣動(dòng)力學(xué)、推進(jìn)、空間探索系統(tǒng)，后者有水電、風(fēng)電為主的流體能量轉(zhuǎn)換。
另外還有環(huán)境及生物流體力學(xué)、流體動(dòng)力學(xué)、流體物理學(xué)、熱力學(xué)、物質(zhì)專業(yè)。
申請(qǐng)所需相關(guān)背景：
如果從事理論研究，則對(duì)物理、數(shù)學(xué)建模和流體力學(xué)要求非常高，如果是偏相關(guān)設(shè)備的研究則要很好的機(jī)械背景。
申請(qǐng)難度：
美國(guó) AME 非常需要這方面的理論研究人才，所有多是原來(lái)從事物理、流體力學(xué)的研究者向此方向申請(qǐng)，一般純機(jī)械的申請(qǐng)者在這幾個(gè)領(lǐng)域申請(qǐng)是沒(méi)有優(yōu)勢(shì)的。
建議具有物理、流體力學(xué)、熱力學(xué)、空氣動(dòng)力學(xué)等理論研究背景的申請(qǐng)者選擇以上幾個(gè)方向。
4、燃燒方向
研究方向：
燃燒，燃燒及推進(jìn)，燃燒及能量，能量轉(zhuǎn)換，燃燒及熱傳遞，電氣推進(jìn)，渦輪及推進(jìn)，汽車工程中內(nèi)燃機(jī)的燃燒研究等。
申請(qǐng)所需相關(guān)背景：
同摩擦一樣，物理背景必不可少，熱力學(xué)非常重要。當(dāng)然如果是偏向設(shè)備的話，那么就需要機(jī)械的設(shè)計(jì)制造與控制背景了。
申請(qǐng)難度：
燃燒同能量的結(jié)合極為緊密，但與實(shí)際工程的運(yùn)用結(jié)合得更緊，所以申請(qǐng)者更多些，競(jìng)爭(zhēng)要比能量和摩擦的激烈。
(二)材料大類
1、納米微米機(jī)械材料
研究方向：
納米技術(shù)的不斷發(fā)展給機(jī)械領(lǐng)域提供了一種全新的材料選擇的可能。目前和機(jī)械交叉的研究領(lǐng)域主要集中在：
高級(jí)材料學(xué)、材料及固體力學(xué)、材料及機(jī)械系統(tǒng)、材料加工、材料機(jī)械特性、材料力學(xué)、材料力學(xué)及制造。
申請(qǐng)所需相關(guān)背景：
需要有很強(qiáng)的材料學(xué)背景，同時(shí)要求有固體力學(xué)、材料力學(xué)、工程力學(xué)背景。
申請(qǐng)難度：
由于很多學(xué)材料的學(xué)生會(huì)轉(zhuǎn)向這些和他們非常相關(guān)的學(xué)科進(jìn)行申請(qǐng)，所有單純具有機(jī)械背景的申請(qǐng)者能成功地機(jī)會(huì)非常小。而且納米作為新興的技術(shù)，受到各國(guó)重視，美國(guó)本土學(xué)生也會(huì)大量申請(qǐng)。所以此專業(yè)的申請(qǐng)難度非常大，沒(méi)有很牛的背景請(qǐng)不要輕易嘗試。
2、聚合工程
研究方向：
主要通過(guò)分子聚合技術(shù)為機(jī)械領(lǐng)域提供新型材料。
申請(qǐng)所需相關(guān)背景：
需要有很好的高分子材料相關(guān)背景，同時(shí)對(duì)材料力學(xué)的要求也比較高。
申請(qǐng)難度：
一般來(lái)說(shuō)，高分子的學(xué)生多還是會(huì)選擇化學(xué)系下進(jìn)行研究。轉(zhuǎn)向 ME 學(xué)院的畢竟還是少數(shù)，所有說(shuō)如果你有很好的高分子背景，再有一定的機(jī)械基礎(chǔ)則成功地機(jī)率會(huì)非常大。
總體來(lái)說(shuō)這個(gè)方向只要背景不錯(cuò)還是很好申請(qǐng)的。
3、生物機(jī)械
研究方向：
生物機(jī)械、生物力學(xué)、生物機(jī)械工程、生物材料與設(shè)備、材料力學(xué)、生物傳感器、納米技術(shù)、活細(xì)胞封裝、工程生物力學(xué)、生物醫(yī)學(xué)機(jī)械工程、神經(jīng)工程學(xué)、整形外科工程、感覺(jué)及神經(jīng)系統(tǒng)研究、運(yùn)動(dòng)生物力學(xué)、人造心臟。
申請(qǐng)所需相關(guān)背景：
這是典型的新興學(xué)科同傳統(tǒng)基礎(chǔ)學(xué)科結(jié)合的表現(xiàn)。
總體來(lái)說(shuō)，此方向需要生物學(xué)，機(jī)械工程和醫(yī)學(xué)知識(shí)三個(gè)領(lǐng)域的知識(shí)背景。單純的生物或醫(yī)學(xué)背景是很難適應(yīng)此學(xué)科的要求的，需要在具備機(jī)械背景的同時(shí)擁有生物，或者醫(yī)學(xué)知識(shí)，尤其是生物學(xué)知識(shí)。
這里所說(shuō)的機(jī)械背景主要指機(jī)械中基本的制造，力學(xué)，材料背景。但要求不會(huì)像前面幾個(gè)學(xué)科中對(duì)純力學(xué)或材料背景那么高的要求。
另外對(duì)于神經(jīng)工程學(xué)，感覺(jué)及神經(jīng)系統(tǒng)研究，人造心臟這些方向，除了需要醫(yī)學(xué)、生物學(xué)、工程學(xué)知識(shí)外，還要有很好的 EE 背景 ( 信號(hào)模擬，信號(hào)傳輸?shù)? )。
申請(qǐng)難度：
此學(xué)科屬于新興學(xué)科，所有美國(guó)學(xué)生申請(qǐng)的比較多，而且由于是交叉學(xué)科，三個(gè)領(lǐng)域的研究者只要在相關(guān)的另外兩個(gè)領(lǐng)域有一定背景，就能夠申請(qǐng)，因此申請(qǐng)的競(jìng)爭(zhēng)非常激烈。
對(duì)于國(guó)內(nèi)純機(jī)械工程學(xué)院畢業(yè)的學(xué)生來(lái)說(shuō)最好不要嘗試這個(gè)方向，成功機(jī)會(huì)渺茫。
(三)制造類
1、設(shè)計(jì)方向
研究方向：
機(jī)械設(shè)計(jì)、產(chǎn)品設(shè)計(jì)、設(shè)計(jì)方法學(xué)、計(jì)算機(jī)輔助設(shè)計(jì)、工程設(shè)計(jì)。
申請(qǐng)所需相關(guān)背景：
設(shè)計(jì)在國(guó)內(nèi)主要以工業(yè)設(shè)計(jì)學(xué)院的形式設(shè)置。
ME 中的 Design，適合的申請(qǐng)者一般具有機(jī)械理論基礎(chǔ) ( 分具體
機(jī)構(gòu)和整體制造流程理論兩大方面 )，同時(shí)又有設(shè)計(jì)基礎(chǔ) -- 包括
一定的藝術(shù)功底 ( 素描 )，電腦繪圖軟件 (Photo shop Pro E 等 )的運(yùn)用。
申請(qǐng)難度：
對(duì)于國(guó)內(nèi)的 ME 的學(xué)生來(lái)說(shuō)如果單獨(dú)申請(qǐng)?jiān)O(shè)計(jì)，主要缺陷在于設(shè)計(jì)理念、理論的落后，對(duì)整體工藝的把握上同工業(yè)發(fā)達(dá)國(guó)家的申請(qǐng)者相比差距比較大。
而工設(shè)的學(xué)生在機(jī)械理論基礎(chǔ)知識(shí)上有比較匱乏，所以能夠成功申請(qǐng)的應(yīng)屆畢業(yè)生不多。獲得錄取的多為有一定工作經(jīng)驗(yàn)的申請(qǐng)者，所以參與競(jìng)爭(zhēng)的人群數(shù)量較小，如果有相關(guān)背景申請(qǐng)比較容易。
2、制造方向
研究方向：
計(jì)算機(jī)輔助制造、產(chǎn)品實(shí)現(xiàn)、高級(jí)制造、制造科學(xué)、制造系統(tǒng)、納米制造。
申請(qǐng)所需相關(guān)背景：
國(guó)內(nèi) ME 學(xué)生的主要申請(qǐng)方向集中于此，而且多集中于機(jī)械制造和計(jì)算機(jī)輔助制造。對(duì)于此專業(yè)的學(xué)生，申請(qǐng)首先需要基本的機(jī)械工程學(xué)背景，包括：機(jī)械原理，機(jī)械制造和固體力學(xué)背景。
另外，對(duì)于產(chǎn)品實(shí)現(xiàn)，高級(jí)制造和計(jì)算機(jī)輔助制造，一定要有很強(qiáng)的計(jì)算機(jī)背景，包括計(jì)算機(jī)語(yǔ)言編程，設(shè)計(jì)軟件的使用;納米制造則首先要有很好的納米技術(shù)應(yīng)用背景，然后具備一定的工程學(xué)知識(shí)。
申請(qǐng)難度：
國(guó)內(nèi)的 ME 學(xué)生大多數(shù)都比較適合此方向，所以申請(qǐng)的人數(shù)非常多，競(jìng)爭(zhēng)比較激烈。
不過(guò)美國(guó)大學(xué)單獨(dú)把Manufacturing 拿出來(lái)做主要學(xué)科設(shè)置的非常少，基本都是以Design & Manufacturing 存在，國(guó)內(nèi)學(xué)生在純制造領(lǐng)域的競(jìng)爭(zhēng)非常激烈。
如果能夠有足夠的計(jì)算機(jī)設(shè)計(jì)背景那么成功獲得錄取的機(jī)會(huì)將會(huì)非常大。
(四)控制類
1、計(jì)算機(jī)輔助工程
研究方向：
計(jì)算流體力學(xué)、計(jì)算工程及信息技術(shù)、計(jì)算力學(xué)、計(jì)算科學(xué)及工程、計(jì)算機(jī)輔助工程、計(jì)算機(jī)輔助設(shè)計(jì)、力學(xué)建模、數(shù)學(xué)計(jì)算建模、數(shù)字推進(jìn)、數(shù)字方法、數(shù)字模擬、虛擬現(xiàn)實(shí)應(yīng)用。
申請(qǐng)所需相關(guān)背景：
極強(qiáng)的數(shù)學(xué)背景 -- 應(yīng)用數(shù)學(xué)、數(shù)學(xué)建模、計(jì)算工程，同時(shí)還需要計(jì)算機(jī)語(yǔ)言能力和計(jì)算機(jī)軟件運(yùn)用能力。
如果能在具有這些能力的同時(shí)還能有相應(yīng)的其他背景 ( 如申計(jì)算流體力學(xué)有流體力學(xué)背景，申計(jì)算機(jī)輔助設(shè)計(jì)有設(shè)計(jì)經(jīng)歷，計(jì)算工程及信息技術(shù)有 EE 背景 ) 那么會(huì)使自己在申請(qǐng)中得到很大程度上的加分。
由于偏向 CS 和 EE，美國(guó)申請(qǐng)者，國(guó)際學(xué)生都很喜歡這個(gè)專業(yè)，所以申請(qǐng)的難度大大增加。
雖然不如 EE 和 CS，但是由于眾多 EE 和 CS 的申請(qǐng)者為了躲避本專業(yè)的高難度申請(qǐng)，紛紛轉(zhuǎn)向同本專業(yè)結(jié)合非常緊密而且有不錯(cuò)就業(yè)前景的這個(gè)方向，造成了此方向的同前面三個(gè)方向相比難度大了非常多。
2、系統(tǒng)與自動(dòng)控制
研究方向：
系統(tǒng)控制，控制 / 設(shè)計(jì) / 制造，控制及 動(dòng)力學(xué)，控制 / 機(jī)器人 / 儀表，動(dòng)力學(xué)系統(tǒng)及控制，動(dòng)力學(xué)系統(tǒng) / 控制及機(jī)械人，旋轉(zhuǎn)機(jī)械動(dòng)力學(xué)，動(dòng)力學(xué) / 振動(dòng) / 聲學(xué)，系統(tǒng)動(dòng)力學(xué)及控制，系統(tǒng)識(shí)別及控制，系統(tǒng) / 測(cè)量 / 控制，智能機(jī)械系統(tǒng)，智能交通系統(tǒng)，機(jī)械系統(tǒng)，非線性動(dòng)力學(xué)及適應(yīng)控制，非線性飛行控制，機(jī)械人學(xué)，機(jī)械人及控制，機(jī)械人及動(dòng)力學(xué)，機(jī)械人及自主系統(tǒng)，機(jī)械人及人機(jī)交互，轉(zhuǎn)動(dòng)體動(dòng)力學(xué)，自動(dòng)化，自動(dòng)推進(jìn)系統(tǒng)，自動(dòng)巡航系統(tǒng)。
申請(qǐng)所需相關(guān)背景：
需要數(shù)學(xué)、計(jì)算機(jī)語(yǔ)言編程、基本的 EE 相關(guān)背景 ( 電子電路知識(shí) )、控制的魯棒與最優(yōu)控制、魯棒多變量控制系統(tǒng)、大規(guī)模動(dòng)態(tài)系統(tǒng)、多變量系統(tǒng)的標(biāo)識(shí)、最小最大控制與動(dòng)態(tài)游戲、用于控制與信號(hào)處理的自適應(yīng)系統(tǒng)、隨機(jī)系統(tǒng)、線性與非線性評(píng)估的設(shè)計(jì)、隨機(jī)與自適應(yīng)控制等等，同時(shí)根據(jù)不同側(cè)重點(diǎn)，應(yīng)有相應(yīng)的設(shè)計(jì)制造、動(dòng)力學(xué)、儀表等相關(guān)背景。
申請(qǐng)難度：
同計(jì)算機(jī)輔助系統(tǒng)相比，此方向的研究?jī)?nèi)容更加靠近 EE 這個(gè)理工科中最難申請(qǐng)的專業(yè)。
而且國(guó)內(nèi)的 ME 和 EE 專業(yè)無(wú)一不會(huì)設(shè)置自動(dòng)控制上的課程，所以說(shuō)這個(gè)方向是 ME 的中國(guó)學(xué)生也是美國(guó)和國(guó)際學(xué)生申請(qǐng)方向最集中的專業(yè)方向，加上 EE 和 CS 的申請(qǐng)人群的轉(zhuǎn)移，所以這是 ME 專業(yè)中最難申請(qǐng)的方向。
3、微電子系統(tǒng)
研究方向：
MEMS，納米制造，微機(jī)械與納機(jī)械裝置，超聲微噴流 (Microjet) 和微米尺度電機(jī)，納米尺度熱量流動(dòng)，微流體，微重力，微尺度熱傳遞，微米 /納米系統(tǒng)，納米摩擦學(xué)，納米力學(xué)。
申請(qǐng)所需相關(guān)背景：
MEMS 是一個(gè)極端多學(xué)科交叉的領(lǐng)域，最基礎(chǔ)的方面是微制備技術(shù)的加工知識(shí)，制造微小結(jié)構(gòu)的方法，同納米技術(shù)結(jié)合緊密，所以很強(qiáng)的納米技術(shù)必不可少。同時(shí)根據(jù)不同側(cè)重點(diǎn)還需要有基本的機(jī)械理論知識(shí)，流體，力學(xué)相關(guān)知識(shí)。
引力，另外由于 EE 學(xué)科中也有這個(gè)方向的設(shè)置，所以申請(qǐng)難度僅次于系統(tǒng)與自動(dòng)控制。有強(qiáng)納米材料背景的申請(qǐng)者會(huì)在申請(qǐng)中占有優(yōu)勢(shì)。
(五)聲學(xué)、光學(xué)類
1、聲學(xué)方向
研究方向：聲音動(dòng)力學(xué)、公路噪音控制、震動(dòng)。
申請(qǐng)所需相關(guān)背景：物理背景，聲音動(dòng)力學(xué)，聲學(xué)傳感器應(yīng)用背景。
申請(qǐng)難度：申請(qǐng)者多為純物理研究者，所以申請(qǐng)人群非常少，申請(qǐng)競(jìng)爭(zhēng)不激烈，容易錄取。
2、光學(xué)方向
研究方向：
激光技術(shù)、光電子學(xué)裝置、超快電子學(xué)、非線性光學(xué)、微光子學(xué)、三維視覺(jué)、光通訊、軟 X 光與遠(yuǎn)紫外線光學(xué)、光印刷學(xué)、光數(shù)據(jù)處理、光通訊、光計(jì)算、光數(shù)據(jù)存儲(chǔ)、光系統(tǒng)設(shè)計(jì)與全息攝影、體全息攝影研究、復(fù)合光數(shù)字?jǐn)?shù)據(jù)處理、圖象處理與材料光學(xué)特性研究。
申請(qǐng)所需相關(guān)背景：強(qiáng)光學(xué)背景、測(cè)量技術(shù)、圖像技術(shù)。
申請(qǐng)難度：
雖然在美國(guó)光學(xué)和光電學(xué)結(jié)合非常緊密，但是國(guó)內(nèi)這兩個(gè)學(xué)科的結(jié)合緊密程度遠(yuǎn)不如美國(guó)。國(guó)內(nèi)申請(qǐng)此方向的多是物理學(xué)基礎(chǔ)研究者，而國(guó)內(nèi) EE 此專業(yè)的設(shè)置并不重，因此此方向國(guó)內(nèi)的申請(qǐng)者很少。競(jìng)爭(zhēng)不激烈，較容易申請(qǐng)。
二、各專業(yè)方向申請(qǐng)難度對(duì)比
總體來(lái)說(shuō)，ME 專業(yè)中申請(qǐng)難度如下：
最難申請(qǐng)的方向：系統(tǒng)與自動(dòng)控制，MEMS，計(jì)算機(jī)輔助工程
其次：制造，設(shè)計(jì)
較易申請(qǐng)的方向：納米材料，生物機(jī)械，聚合工程
最易申請(qǐng)的：聲學(xué)，光學(xué)，摩擦，燃燒，能量，流體
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